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Plasma properties in a planar d.c. magnetron sputtering device
被引：1
作者：
Bingsen, Hu
[1
]
Zhou, Cao
[1
]
机构：
[1] Lanzhou Inst of Physics, Lanzhou, China
关键词：
539 Metals Corrosion and Protection;
Metal Plating - 714 Electronic Components and Tubes - 932 High Energy Physics;
Nuclear Physics;
Plasma Physics;
D O I：
10.1016/0257-8972(92)90051-B
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
8
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