Low temperature preparation of TiO2 thin films by plasma-enhanced chemical vapor deposition

被引：16

作者：

Kumashiro, Yoshimasa ^{[1
]}

Kinoshita, Yoshiki ^{[1
]}

Takaoka, Yoichi ^{[1
]}

Murasawa, Sadao ^{[1
]}

机构：

[1] Ishihara Sangyo Kaisha Ltd, Kusatsu, Japan

来源：

Nippon Seramikkusu Kyokai Gakujutsu Ronbunshi/Journal of the Ceramic Society of Japan | 1993年 / 101卷 / 1173期

关键词：

18;

D O I：

10.2109/jcersj.101.514

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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