USE OF ORGANOSILICON POLYMERS IN MULTILAYER PLASMA RESIST PROCESSING.

被引：10

作者：

Paraszczak, J. ^{[1
]}

Babich, E. ^{[1
]}

McGouey, R. ^{[1
]}

Heidenreich, J. ^{[1
]}

Hatzakis, M. ^{[1
]}

Shaw, J. ^{[1
]}

机构：

[1] IBM, Yorktown Heights, NY, USA, IBM, Yorktown Heights, NY, USA

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0167-9317(87)90073-6

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURE

引用

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