SYNCHROTRON RADIATION X-RAY LITHOGRAPHY BEAM LINE OF NOVEL DESIGN.

被引：15

作者：

Cerrina, F. ^{[1
]}

Guckel, H. ^{[1
]}

Wiley, J.D. ^{[1
]}

Taylor, J.W. ^{[1
]}

机构：

[1] Univ of Wisconsin-Madison, Dep of, Electrical & Computer, Engineering, Madison, WI, USA, Univ of Wisconsin-Madison, Dep of Electrical & Computer Engineering, Madison, WI, USA

来源：

Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics Processing and Phenomena | 1984年 / 3卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.583233

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

页码：227 / 231