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FUTURE OF SUBHALF-MICROMETER OPTICAL LITHOGRAPHY.
被引:45
作者
:
Lin, Burn J.
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
IBM, Essex Junction, VT, USA, IBM, Essex Junction, VT, USA
IBM, Essex Junction, VT, USA, IBM, Essex Junction, VT, USA
Lin, Burn J.
[
1
]
机构
:
[1]
IBM, Essex Junction, VT, USA, IBM, Essex Junction, VT, USA
来源
:
Microelectronic Engineering
|
1987年
/ 6卷
/ 1-4期
关键词
:
SUBHALF-MICROMETER OPTICAL LITHOGRAPHY;
D O I
:
10.1016/0167-9317(87)90015-3
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
(Edited Abstract)
引用
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