FUTURE OF SUBHALF-MICROMETER OPTICAL LITHOGRAPHY.

被引:45
作者
Lin, Burn J. [1 ]
机构
[1] IBM, Essex Junction, VT, USA, IBM, Essex Junction, VT, USA
关键词
SUBHALF-MICROMETER OPTICAL LITHOGRAPHY;
D O I
10.1016/0167-9317(87)90015-3
中图分类号
学科分类号
摘要
(Edited Abstract)
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