APPLICATION OF THE SIMULATOR 'XMAS' ON SPECIFIC PROBLEMS IN SUB-HALF-MICRON LITHOGRAPHY.

被引：5

作者：

Oertel, H. ^{[1
]}

Betz, H. ^{[1
]}

Heuberger, A. ^{[1
]}

机构：

[1] Fraunhofer-Inst fuer, Mikrostrukturtechnik, Berlin, West, Ger, Fraunhofer-Inst fuer Mikrostrukturtechnik, Berlin, West Ger

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0167-9317(85)90049-8

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

页码：387 / 394