Characterization of epitaxially grown CVD-Pb(Zr, Ti)O3 films with high deposition rate

被引：13

作者：

Funakubo, Hiroshi ^{[1
]}

Imashita, Katsuhiro ^{[1
]}

Shinozaki, Kazuo ^{[1
]}

Mizutani, Nobuyasu ^{[1
]}

机构：

[1] Tokyo Inst of Technology, Tokyo, Japan

来源：

Journal of the Ceramic Society of Japan. International ed. | 1994年 / 102卷 / 02期

关键词：

22;

D O I：

10.2109/jcersj.102.114

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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