PLASMA FOCUS AS A RADIATION SOURCE FOR X-RAY LITHOGRAPHY.

被引：4

作者：

Eberle, J. ^{[1
]}

Krompholz, H. ^{[1
]}

Lebert, R. ^{[1
]}

Neff, W. ^{[1
]}

Noll, R. ^{[1
]}

机构：

[1] Fraunhofer Inst fuer Lasertechnik, Aachen, West Ger, Fraunhofer Inst fuer Lasertechnik, Aachen, West Ger

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0167-9317(85)90075-9

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

LITHOGRAPHY

引用

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