METHODS OF CREATION AND EFFECT OF MICROWAVE PLASMAS UPON THE ETCHING OF POLYMERS AND SILICON.

被引：25

作者：

Paraszczak, J. ^{[1
]}

Heidenreich, J. ^{[1
]}

Hatzakis, M. ^{[1
]}

Moisan, M. ^{[1
]}

机构：

[1] IBM, Yorktown Heights, NY, USA, IBM, Yorktown Heights, NY, USA

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0167-9317(85)90050-4

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

INTEGRATED CIRCUIT MANUFACTURE

引用

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