High moment epitaxial Fe-N thin films

被引：6

作者：

Byeon, Soon Cheon ^{[2
]}

Liu, Fenglin ^{[2
]}

Mankey, G.J. ^{[1
,2
]}

机构：

[1] IEEE, United States

[2] Center for Materials for Information Technology, Department of Physics and Astronomy, University of Alabama, Tuscaloosa, AL 35487, United States

来源：

关键词：

Reactive sputtering;

D O I：

10.1109/20.950963

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1770 / 1772