Multilayer resists with variable layer parameters for submicron lithography

被引：3

作者：

Aristov, V.V. ^{[1
]}

Dmitriyeva, V.A. ^{[1
]}

Kudryashov, V.A. ^{[1
]}

Pfeiffer, K. ^{[1
]}

Lorkowski, H.-J. ^{[1
]}

机构：

[1] USSR Acad of Sciences, Russia

来源：

关键词：

Acid Copolymer - Electron Beam Lithography - Multilayer Resists - Positive Photoresists - Resist Structure Profiles - Submicron Lithography;

D O I：

10.1016/0167-9317(90)90169-T

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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