未找到相关数据
Fabrication of 25nm wide gold lines using nanometer scale lithography and ionized cluster beam deposition
被引：4
作者：
机构：
[1] Huq, S.E.
[2] Chen, Z.W.
[3] McMahon, R.A.
[4] Jones, G.A.C.
[5] Ahmed, H.
来源：
Huq, S.E.
|
1600年
/
11期
关键词：
7;
D O I：
10.1016/0167-9317(90)90126-E
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
引用
收藏
页码：1 / 4
相关论文