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ATOMISTICS OF HELIUM DIFFUSION IN COPPER AND TUNGSTEN.
被引：23
作者：
Wilson, W.D.
[1
]
Bisson, C.L.
[1
]
机构：
[1] Sandia Laboratories, Livermore,CA,94550, United States
来源：
|
1600年
/
19期
关键词：
543;
Chromium;
Manganese;
Molybdenum;
Tantalum;
Tungsten;
Vanadium and Alloys - 544 Copper and Alloys - 622 Radioactive Materials - 804 Chemical Products Generally;
D O I：
10.1080/00337577308232215
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
10
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