Investigations on the sulphur incorporation in sputtered Cu, In multilayer precursors

被引：6

作者：

Ramakrishna Reddy, K.T. ^{[1
]}

Forbes, I. ^{[2
]}

Miles, R.W. ^{[2
]}

机构：

[1] Department of Physics, Sri Venkateswara University, Tirupati-517 502, India

[2] School of Engineering, University of Northumbria, NE1 8ST, Newcastle, United Kingdom

来源：

关键词：

Sulphurization;

D O I：

10.1016/S0169-4332(00)00689-9

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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