IDENTIFICATION AND REMOVAL OF OPAQUE DEFECTS ON X-RAY MASKS IN A FOCUSSED ION BEAM REPAIR SYSTEM.

被引：9

作者：

Weigmann, U. ^{[1
]}

Burghause, H. ^{[1
]}

Schaffer, H. ^{[1
]}

机构：

[1] Fraunhofer-Inst fuer, Mikrostrukturtechnik, Berlin, West, Ger, Fraunhofer-Inst fuer Mikrostrukturtechnik, Berlin, West Ger

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0167-9317(87)90096-7

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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