Chemical amplification of resist lines (CARL)

被引：13

作者：

Sebald, M. ^{[1
]}

Sezi, R. ^{[1
]}

Leuschner, R. ^{[1
]}

Ahne, H. ^{[1
]}

Birkle, S. ^{[1
]}

机构：

[1] Siemens AG, Germany

来源：

Microelectronic Engineering | 1990年 / 11卷 / 1-4期

关键词：

9;

D O I：

10.1016/0167-9317(90)90164-O

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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