点状籽晶法生长DKDP晶体的研究

被引:3
作者
孙玉平
常新安
臧和贵
机构
[1] 北京工业大学材料科学与工程学院,北京工业大学材料科学与工程学院,北京工业大学材料科学与工程学院北京,北京,北京
基金
北京市自然科学基金;
关键词
DKDP晶体; 点状籽晶; 溶液稳定性; 电光性能;
D O I
10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2004.01.016
中图分类号
O782 [晶体生长工艺];
学科分类号
0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;
摘要
本文研究了影响溶液稳定性的因素,主要包括溶液的纯度、饱和点和过饱和度等,并对DKDP的点状籽晶法生长进行了初步研究。同时比较了不同生长速度生长的晶体质量。结果表明:经超细过滤的高纯度溶液稳定性有很大提高,而此时生长速度对晶体质量的影响不大。最后,获得了X、Y向生长速度达3.8mm/d的点状籽晶,生长出尺寸为44mm×44mm×48mm的高质量DKDP晶体,并对晶体生长的表面进行了微观观察,分析了DKDP晶体生长的微观机制。
引用
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