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WOx/TiO2光催化剂的可见光催化活性机理探讨
被引：76
作者：
张琦
李新军
李芳柏
常杰
机构：
[1] 中国科学院广州能源研究所,中国科学院广州能源研究所,香港理工大学土木与结构工程系,中国科学院广州能源研究所广州,广州,香港九龙,广州
来源：
基金：
广东省科技计划;
广东省自然科学基金;
关键词：
光催化;
可见光活性;
XPS;
费米能级;
二氧化钛;
磁控溅射;
氧化钨;
D O I：
暂无
中图分类号：
O643 [化学动力学、催化作用];
学科分类号：
070305 [高分子化学与物理];
摘要：
采用磁控溅射技术在用浸渍提拉法制得的TiO2薄膜上,溅射氧化钨层,通过气相反应中光催化降解二甲苯的实验表明,WOx/TiO2薄膜具有可见光活性.通过UV-Vis吸收光谱、X射线光电子能谱(XPS)等方法对其可见光活性的机理进行探索.UV-Vis吸收光谱表明WOx,TiO2对可见光响应的范围有一定的扩展,吸收强度增加.XPS表明WOx/TiO2薄膜表面形成了明显的W杂质能级和Ti缺陷能级,这是WOx/TiO2在可见光范围有一吸收的主要原因,也是光催化剂具有可见光活性的必要条件之一,同时杂质能级的存在使半导体费米能级上移,载流子增加,光催化效率提高.
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页码：507 / 511
页数：5
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