微光刻技术的发展

被引：10

作者：

冯伯儒

张锦

侯德胜

陈芬

机构：

[1] 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室!成都

[2] 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室!成

来源：

关键词：

光刻技术; 光刻极限; 准分子激光光刻技术;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN305.7 [光刻、掩膜];

学科分类号：

1401 ;

摘要：

阐述了光刻技术的发展及其分辨极限 ,对准分子激光光刻技术及其发展作了比较详细的论述。

引用

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共 7 条

[1]

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