蓝宝石衬底的化学机械抛光技术的研究

被引:38
作者
王银珍
周圣明
徐军
机构
[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院上海光学精密机械研究所上海,上海,上海
关键词
蓝宝石; 衬底; 化学机械抛光;
D O I
10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2004.03.039
中图分类号
TN304 [材料];
学科分类号
0805 ; 080501 ; 080502 ; 080903 ;
摘要
介绍了蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺 ,概述了化学机械抛光原理和设备 ,讨论分析了影响蓝宝石衬底化学机械抛光的因素 ,阐述了CMP的主要发展趋势 :能定量确定最佳CMP工艺 ,系统地研究CMP工艺过程参数 ,建立完善的CMP理论模型 ,满足不同的工艺要求和应用领域 ,有效降低成本 ,提高产量
引用
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