低亚表面损伤石英光学基底的加工和检测技术附视频

被引：12

作者：

马彬 ^{[1
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沈正祥 ^{[1
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张众 ^{[1
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贺鹏飞 ^{[2
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季一勤 ^{[3
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刘华松 ^{[1
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刘丹丹 ^{[3
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王占山 ^{[1
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机构：

[1] 同济大学精密光学工程技术研究所

[2] 同济大学航空航天与力学学院

[3] 天津津航技术物理研究所天津市薄膜光学重点实验室

来源：

强激光与粒子束 | 2010年 / 09期

关键词：

亚表面损伤层; 共焦显微成像; 光散射; 化学腐蚀; 刻蚀速率;

D O I：

暂无

中图分类号：

O346.5 [损伤理论];

学科分类号：

摘要：

制备低亚表面损伤的超光滑光学基底,是获得高损伤阈值薄膜的前提条件。针对石英材料在不同加工工序中引入亚表面损伤层的差异,首先利用共焦显微成像结合光散射的层析扫描技术,对W10和W5牌号SiC磨料研磨后的亚表面缺陷进行了检测,讨论了缺陷尺寸与散射信号强度、磨料粒径与损伤层深度间的对应关系;同时,采用化学腐蚀处理技术对抛光后样品的亚表面形貌进行了刻蚀研究,分析了化学反应生成物和亚表面缺陷对刻蚀速率的影响、不同深度下亚表面缺陷的分布特征,以及均方根粗糙度与刻蚀深度间的联系。根据各道加工工艺的不同采用了相应的亚表面检测技术,由此来确定下一道加工工序,合理的去除深度,最终获得了极低亚表面损伤的超光滑光学基底。

引用

页码：2181 / 2185

页数：5

共 4 条

[1] 酸蚀深度对熔石英三倍频激光损伤阈值的影响 [J].

徐世珍 ;

吕海兵 ;

田东斌 ;

蒋晓东 ;

袁晓东 ;

祖小涛 ;

郑万国 .

强激光与粒子束, 2008, (05) :760-764

[2] 光学元件亚表面缺陷结构的蚀刻消除附视频 [J].

项震 ;

聂传继 ;

葛剑虹 ;

侯晶 ;

许乔 .

强激光与粒子束, 2007, (03) :373-376

[3] K9基片的亚表面损伤探测及化学腐蚀处理技术研究 [J].

陈宁 ;

张清华 ;

许乔 ;

王世健 ;

段利华 .

强激光与粒子束, 2005, (09) :1289-1293

[4]

Morphology and microstructureinfused silicainduced by highfluence ultraviolet3ω （355nm）la-ser pulses. Wong J,Ferriera J L,Lindsey E F,et al. Journal of Non crystalline Solids . 2006

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