学术探索
学术期刊
新闻热点
数据分析
智能评审
立即登录
溶剂萃取中含硅污物的处理
被引:3
作者
:
A.W.Fletcher
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
A.W.Fletcher
乔繁盛
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
乔繁盛
机构
:
来源
:
湿法冶金
|
1986年
/ 02期
关键词
:
硅藻土;
浸出液;
硅藻岩;
碎屑岩;
污物;
氟离子;
阴离子;
二氧化硅;
过滤法;
溶剂萃取;
膜滤器;
固体含量;
D O I
:
10.13355/j.cnki.sfyj.1986.02.007
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
从浓氟化物浸出液中溶剂萃取铜和锌时,发现形成的界面污物几乎完全由二氧化硅所组成。浸出液大约含SiO2500毫克/升,这些二氧化硅可以用Whatman膜滤器除去,从而防止界面污物的形成。但是,用过滤、凝聚或吸附法除去二氧化硅,难以在工厂实际中应用。加入大约500毫克/升氟离子,对防止二氧化硅的沉淀有显著作用,可得清洁的液-液界面,因而在连续逆流试验中采用了这种做法。
引用
收藏
页码:49 / 50+75 +75
页数:3
相关论文
未找到相关数据
未找到相关数据