溶剂萃取中含硅污物的处理

被引:3
作者
A.W.Fletcher
乔繁盛
机构
关键词
硅藻土; 浸出液; 硅藻岩; 碎屑岩; 污物; 氟离子; 阴离子; 二氧化硅; 过滤法; 溶剂萃取; 膜滤器; 固体含量;
D O I
10.13355/j.cnki.sfyj.1986.02.007
中图分类号
学科分类号
摘要
从浓氟化物浸出液中溶剂萃取铜和锌时,发现形成的界面污物几乎完全由二氧化硅所组成。浸出液大约含SiO2500毫克/升,这些二氧化硅可以用Whatman膜滤器除去,从而防止界面污物的形成。但是,用过滤、凝聚或吸附法除去二氧化硅,难以在工厂实际中应用。加入大约500毫克/升氟离子,对防止二氧化硅的沉淀有显著作用,可得清洁的液-液界面,因而在连续逆流试验中采用了这种做法。
引用
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页码:49 / 50+75 +75
页数:3
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