铍中的反应率测量和分析

被引:1
作者
刘荣
林理彬
陈渊
郭海萍
沈寄安
刘渊
江文勉
蒋励
杨可
王玫
机构
[1] 中国工程物理研究院核物理与化学研究所!成都
[2] 不详
[3] 四川大学辐射物理与技术开放实验室!成都
[4] 中国工程物理研
关键词
铍系统; 活化箔; 绝对反应率;
D O I
暂无
中图分类号
TL341 [结构材料];
学科分类号
摘要
用4 种不同阈能的活化箔测量和比较了两种铍系统中的绝对活化反应率。铍厚分别为5.3 和8.4 cm ,活化箔为In、Zn、Al和Cu。实验总误差为5 % ~7 % 。分析和比较了实验结果与用1-DANISN 程序和ENDF/B-Ⅵ库数据的计算结果,两者间的偏差均小于7 % 。
引用
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