薄膜生成过程的计算机模拟研究

被引:4
作者
于工
岳国珍
机构
关键词
薄膜物理;计算机模拟;膜生长;
D O I
暂无
中图分类号
O484.1 [薄膜的生长、结构和外延];
学科分类号
摘要
根据多种制膜方法的共同点建立模型,用微机模拟源物质粒子在靶衬底上沉积成膜的全过程,研究了影响薄膜质量的工艺条件,如沉积速率、衬底温度等因素在微观成膜过程中所表现出来的物理细节及其规律。
引用
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共 1 条
[1]   用模拟退火模型研究非晶硅的结构和振动性质 [J].
于工 ;
郝茂盛 ;
张仿清 ;
陈光华 .
物理学报, 1993, (02) :314-319