硬质合金PECVD设备的研究

等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)是一种利用高压电场 ,使含有涂层元素的化合物或单质气体激发成等离子体 ,加速化学反应 ,降低沉积温度、提高沉积速率的一种涂层技术 ,使硬质合金表面性能强化 ,并保持基体原有抗弯强度。本文主要介绍了一种硬质合金PECVD设备 ,该设备结构简单 ,能实现低温条件下的化学气相沉积 ,等离子体起到增强沉积反应的作用 ,实验表明该设备能较好地完成TiN -TiCN复合涂层 ,也为进一步研究提供了参考。