高温对生长在加富CO条件下水稻离体叶片叶绿素荧光的影响

４个水稻品种ＩＲ７２、桂朝２号、特三矮２号和ＩＩ优４４８０栽种于两种ＣＯ2浓度（３５０μｌ　Ｌ-1、 ６００μｌ　Ｌ-1）下，将其离体叶片经不同温度（３０、 ３５、 ４０、 ４５、 ５０ ℃）处理３０ ｍｉｎ后，其细胞膜渗漏率 随处理温度的升高而上升，ＩＲ７２和桂朝２号在４０－４５℃之间有一个急剧上升的折点，而特三矮２号和 Ⅱ优４４８０的折点则在４５－５０ ℃之间。Ｆｖ／Ｆｍ、Ｆｖ／Ｆｏ、ФＰＳＩＩ和ｑＰ随处理温度的升高而下降，ｑＮ 则先升后降。特三矮２号和ＩＩ优４４８０的这些荧光参数随温度的变化较ＩＲ／７２和桂朝２号相对平缓些。 结果表明特三矮２号和ＩＩ优４４８０比ＩＲ７２和桂朝２号有较强的抗高温能力。生长在高ＣＯ２浓度下的水 稻， 叶片经高温处理后，其细胞膜渗漏率大于生长在对照空气中的叶片，但两者的叶绿素荧光参数则 没有明显差别。