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石墨层间化合物的研究与应用前景
被引:20
作者
:
康飞宇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
清华大学材料系
康飞宇
机构
:
[1]
清华大学材料系
来源
:
新型碳材料
|
1991年
/ Z1期
关键词
:
层间化合物;
插入物;
GIC;
阶结构;
合成技术;
石墨层;
新型碳材料;
应用前景;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
本文介绍了石墨层间化合物的最新研究动态,在研究现状中,着重对石墨层间化合物的合成技术,结构特点、性能测试方面的最新研究结果作了介绍;在应用前景中,重点介绍了有可能获得实用的国际上比较热门的研究方向.有些地方结合了清华大学的科研内容.
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