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TiN/AlN 纳米混合膜的微结构及力学性能
被引:7
作者
:
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机构:
李戈扬
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机构:
施晓蓉
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机构:
辛挺辉
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机构:
吴亮
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机构:
李鹏兴
机构
:
[1]
上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室
来源
:
上海交通大学学报
|
1999年
/ 02期
关键词
:
纳米薄膜;磁控溅射;硬度;
D O I
:
10.16183/j.cnki.jsjtu.1999.02.011
中图分类号
:
O484.2,O484.1 [];
学科分类号
:
080501 ;
1406 ;
摘要
:
通过双靶轮流反应溅射的工艺方法制备了TiN/AlN纳米混合膜.采用XRD衍射、TEM和显微硬度等测试方法对TiN/AlN纳米混合膜的微结构和力学性能进行了研究.结果表明,TiN/AlN纳米混合膜的晶粒大小为10~20nm;薄膜总体表现出硬度增强效果,在TiN∶AlN(体积比)≈1∶1时,薄膜硬度获得极大值HK32.25GPa.
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页码:38 / 40
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