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PVA/HEC偏光膜的制备与偏光性能研究
被引:2
作者
:
张公正
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
北京理工大学化工与材料学院,日本千蕖工业大学
张公正
朱孝川
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
北京理工大学化工与材料学院,日本千蕖工业大学
朱孝川
四十宫龙德
论文数:
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引用数:
0
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机构:
北京理工大学化工与材料学院,日本千蕖工业大学
四十宫龙德
机构
:
[1]
北京理工大学化工与材料学院,日本千蕖工业大学
来源
:
高分子材料科学与工程
|
1996年
/ 01期
关键词
:
聚乙烯醇;
羟乙基纤维素;
氧化;
偏光膜;
D O I
:
10.16865/j.cnki.1000-7555.1996.01.017
中图分类号
:
TQ342.41 [];
学科分类号
:
0805 ;
080502 ;
摘要
:
研究了采用聚乙烯醇(PVA)、羟乙基纤维素(HEC)为主体材料,内含碘化钾(KI),或者碘化锂(LiI),用过氧化氢(H_2O_2)氧化制备PVA/HEC偏光膜。实验结果表明,选择4.80gPVA,0.20gHEC中含有5mmolKI的基膜,用5%H_2O_2水溶液氧化5s,经拉伸,干燥,可制备柔韧性能好的PVA/HEC偏光膜。根据实验结果,提出了新法PVA/HEC膜与I_2形成络合物的机理模型。
引用
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页码:91 / 95
页数:5
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