激光量热法测量光学薄膜微弱吸收

被引：11

作者：

李斌成 ^{[1
]}

熊胜明 ^{[1
]}

Holger Blaschke ^{[2
]}

Detlev Ristau ^{[2
]}

机构：

[1] 中国科学院光电技术研究所

[2] 汉诺威激光中心

来源：

中国激光 | 2006年 / 06期

关键词：

测量技术; 微弱吸收; 激光量热法; 光学薄膜;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.41 [];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

按照国际标准ISO 11551研制了用于测量光学薄膜微弱吸收的激光量热装置。典型情况下吸收测量灵敏度优于10-6,测量误差估计为10%左右。在1064 nm波长测量1 mm厚石英玻璃基板的绝对吸收为3.4×10-6,测量灵敏度达到1.5×10-7。测量了不同膜层设计、不同使用角度、不同镀膜技术镀制的全介质高反膜样品;使用离子束溅射(IBS)技术镀制的Ta2O5/SiO2多层0°反射镜的吸收仅为1.08×10-5,而使用离子束辅助沉积(IAD)技术镀制的HfO2/SiO2多层45°反射镜的吸收测量值为6.83×10-5。

引用

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