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激光相干层析成像的光散射模拟计算
被引:5
作者
:
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引用数:
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机构:
谌一
薛平
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0
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机构:
清华大学现代应用物理系单原子分子测控教委开放实验室
薛平
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机构:
袁韬
论文数:
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机构:
陈炜
陈瓞延
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机构:
清华大学现代应用物理系单原子分子测控教委开放实验室
陈瓞延
机构
:
[1]
清华大学现代应用物理系单原子分子测控教委开放实验室
来源
:
光学学报
|
1999年
/ 04期
关键词
:
光学相干层析,光散射效应,蒙特-卡罗模拟计算;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TN249 [激光的应用];
学科分类号
:
0803 ;
080401 ;
080901 ;
摘要
:
利用低相干光作为光源的光学相干层析技术是一种新型成像技术。本文利用蒙特-卡罗(Monte-Carlo)模拟计算方法研究了该技术在不同的散射条件下,相干调制信号随散射系数的变化关系,得出了单次散射和多次散射的差别以及它们对成像质量的影响,并进一步讨论了利用单次散射和多次散射信号,提高光学相干层析术图像清晰度和信号强度的方法。还研究了光束半径大小对成像分辨率的影响及变化过程,得出了对实验有指导意义的结果
引用
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页码:55 / 59
页数:5
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