半导体厂含氟废水处理工程改造

被引：13

作者：

程姣 ^{[1
]}

石凯 ^{[2
]}

李应华 ^{[1
]}

机构：

[1] 深圳深爱半导体有限公司

[2] 深圳方正微电子有限公司

来源：

中国给水排水 | 2008年 / 06期

关键词：

含氟废水; 化学沉淀; 工艺改造;

D O I：

暂无

中图分类号：

X703 [废水的处理与利用];

学科分类号：

083001 [环境科学];

摘要：

半导体生产废水中氟化物浓度较高,原有除氟工艺为二级加药[石灰、Al2(SO4)3]、二级沉淀,但出水氟化物不能达标。现将工艺调整为原水与石灰反应后即直接与Al2(SO4)3反应,再沉淀,同时改善反应条件。在基本不增加总投药量的情况下,出水氟化物浓度可稳定控制在8.0mg/L左右,达到了广东省《水污染物排放限值》(DB 44/26—2001)的一级标准。

引用

收藏

页码：28 / 30

页数：3

相关论文

共 4 条

[1]

化学混凝沉淀-吸附法处理半导体工业含氟废水 [J].

唐江涛 ;

蒋明 ;

刘金香 ;

孙少华 .

南华大学学报(自然科学版), 2006, (02) :66-69+75

[2]

彩管厂含氟废水处理工程实例及问题讨论 [J].

吴昕 ;

汪晓军 ;

何睦盈 .

工业用水与废水, 2005, (01) :82-83

[3]

含氟水治理研究进展 [J].

卢建杭 ;

黄克玲 ;

刘维屏 .

化工环保, 1999, (06) :341-345

[4]

萤石矿高氟废水处理 [J].

唐锦涛 ;

曾凡勇 ;

罗彬 ;

不详 .

环境化学 , 1990, (03) :20-24