用Ti/Ni/Ti多层中间层进行Si3N4陶瓷的部分瞬间液相连接

被引：27

作者：

陈铮

赵其章

楼宏青

周飞

李志章

罗启富

机构：

[1] 华东船舶工业学院

[2] 浙江大学

[3] 江苏理工大学

来源：

硅酸盐学报 | 1998年 / 01期

关键词：

陶瓷，氮化硅，连接，中间层，瞬间液相，扩散;

D O I：

10.14062/j.issn.0454-5648.1998.01.005

中图分类号：

TQ174.758.12 [];

学科分类号：

080503 ;

摘要：

在１３２３Ｋ和０．１ＭＰａ压应力下用Ｔｉ／Ｎｉ／Ｔｉ多层中间层进行Ｓｉ３Ｎ４陶瓷的部分瞬间液相连接．测定了不同连接时间的接头四点弯曲强度，对连接界面进行了ＳＥＭ，ＥＤＸ和ＸＲＤ分析．结果表明：Ｔｉ和Ｎｉ相互扩散形成的液态合金与Ｓｉ３Ｎ４反应并浸润；液相区等温凝固后，形成Ｓｉ３Ｎ４／反应层／ＮｉＴｉ／Ｎｉ３Ｔｉ／Ｎｉ的过渡层连接；连接时间为７．２ｋｓ时，ＮｉＴｉ层已基本消失．分析了陶瓷部分瞬间液相（ＰＴＬＰ）连接的特征，提出了陶瓷ＰＴＬＰ连接参数优化的模型．

引用

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