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校正激光直写邻近效应的快速方法
被引:2
作者:
杜惊雷
郭永康
黄奇忠
粟敬钦
高福华
邱传凯
崔铮
机构:
[1] 四川大学物理系
[2] 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
[3] 英国卢瑟福国家实验室
来源:
关键词:
激光直写,邻近效应,激光光刻;
D O I:
暂无
中图分类号:
TN305.7 [光刻、掩膜];
学科分类号:
1401 ;
摘要:
针对激光直写中的邻近效应的特点,提出通过直写曝光数据预补偿进行光学邻近效应校正的快速、有效方法,并获得了满意的实验结果。
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