抗坏血酸在普鲁士蓝薄膜修饰电极上的电催化氧化

被引:7
作者
李凤斌
董绍俊
机构
[1] 中国科学院长春应用化学研究所
[2] 中国科学院长春应用化学研究所 长春
[3] 长春
关键词
抗坏血酸; 速率常数; 催化氧化; 峰电流; 电位阶跃; 化学修饰电极; 普鲁士蓝; 铁蓝;
D O I
暂无
中图分类号
学科分类号
摘要
本文详细研究了普鲁士蓝(PB)薄膜本身电荷传输过程的动力学及PB薄膜催化抗坏血酸(AH2)电氧化的动力学,用电位阶跃计时电流法和计时电量法,恒电流计时电位法测得PB膜中电荷传输表观扩散系数Dct平均为2.62×10-10cm2·s-1;用RDE法测得AH2在PB薄膜上催化氧化的速率常数为1.23×10~8cm3·mol-1·s-1,催化反应对AH2为一级,只发生在PB薄膜与溶液的界面上,整个催化过程受到溶液中的传质、膜内部的电荷传输及膜与溶液界面上交叉反应三种因素单独或联合控制,实际出现四种动力学情况。
引用
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