自聚焦平面微透镜阵列的制作及其基本特性

被引：6

作者：

刘德森，高应俊，朱传贵，宋光年，高凤，姚胜利，闫国安

机构：

[1] 中国科学院西安光机所

来源：

高技术通讯 | 1996年 / 04期

关键词：

自聚焦平面微透镜阵列，光刻离子交换;

D O I：

暂无

中图分类号：

TH740.3 [];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

讨论了自聚焦平面微透镜阵列的制作工艺及其基本特性。

引用

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页数：5

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共 3 条

[1]

变折射率介质的物理基础.[M].刘德森;高应俊编著;.国防工业出版社.1991,

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