多弧离子镀TiN涂层工艺及相结构

被引：9

作者：

叶卫平

宫秀敏

孙伟

许大庆

机构：

[1] 武汉汽车工业大学材料系

[2] 华中理工大学

来源：

关键词：

TiN涂层,多弧离子镀,预轰击时间,氮分压,靶电流;

D O I：

10.13251/j.issn.0254-6051.1998.10.003

中图分类号：

TG174.442,TG174.44 [];

学科分类号：

080503 ;

摘要：

探讨了多弧离子镀技术中预轰击时间、氮分压和靶电流等对高速钢ＴｉＮ涂层的影响。结果表明，在不同的工艺条件下，ＴｉＮ涂层的相结构组成基本相同，但相对量不一样。当氮分压降低时或当预轰击时间延长时，涂层的硬度增大，耐磨性能改善。当靶电流减小时，涂层的硬度和耐磨性能降低。

引用

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