不同电解质溶液对聚吡咯修饰膜性质的影响

被引：10

作者：

田颖 ^{[1
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李浙齐 ^{[1
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徐洪峰 ^{[1
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吴艳波 ^{[1
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杨凤林 ^{[2
]}

机构：

[1] 大连交通大学环境与化学工程学院

[2] 大连理工大学环境科学与工程系

来源：

物理化学学报 | 2008年 / 04期

关键词：

聚吡咯; 氧化还原行为; 电解质溶液; FT-IR;

D O I：

暂无

中图分类号：

O633.5 [杂环链聚合物（链上含有杂环的聚合物）];

学科分类号：

摘要：

以对甲基苯磺酸钠(p-TSNa)为掺杂剂在不锈钢电极表面恒电位合成聚吡咯(PPy)修饰膜,采用循环伏安法在-1.6-0.8V大范围扫描研究了修饰膜在H2SO4、Na2SO4、NaOH电解质溶液中的氧化还原行为.结果表明,在H2SO4溶液中,以H+的脱出(氧化)/嵌入(还原)为特征,并发现聚吡咯在酸性溶液中所特有的质子还原峰.在Na2SO4和NaOH溶液中,以Na+的脱出(氧化)/嵌入(还原)峰为特征.FT-IR吸收光谱显示,经NaOH处理后,聚吡咯膜的长共轭结构被完全破坏,而经H2SO4和Na2SO4处后,膜的共轭结构未发生变化.

引用

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