等离子体原子发射光谱/质谱在新型陶瓷材料分析中的应用

被引：2

作者：

彭天右

江祖成

胡斌

秦永超

廖振环

机构：

[1] 武汉大学化学系!武汉

[2] 不详

来源：

关键词：

等离子体原子发射光谱; 等离子体质谱; 进样技术; 新型陶瓷材料;

D O I：

暂无

中图分类号：

O657.3 [光化学分析法（光谱分析法）];

学科分类号：

摘要：

本文对近几年来等离子体原子发射光谱 ( ICP-AES)和等离子体质谱 ( ICP-MS)在新型陶瓷材料分析中的应用进行了评述 ,讨论了应用 ICP-AES/MS技术测定陶瓷材料中痕量杂质的各种进样技术。引用文献 60篇。

引用

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页数：7

共 12 条

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