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一种电化学渗氢装置的研究
被引:3
作者
:
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
张学元
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
杜元龙
机构
:
[1]
中国科学院金属腐蚀与防护研究所
[2]
金属腐蚀与防护国家重点实验室
来源
:
腐蚀科学与防护技术
|
1996年
/ 02期
关键词
:
钯,氧化电流;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TG174.41 [电化学保护];
学科分类号
:
080503 ;
摘要
:
报导了一种电化学渗氢装置,通过电化学动电位扫描及恒电位氧化等技术找到了氧化原子氢的合适电位区间。定量地测量了H2S浓度与渗氢电流的关系,验证了该装置研究渗氢的可行性。
引用
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页码:75 / 79
页数:5
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