镁合金微弧氧化陶瓷层生长过程及微观结构的研究

被引：114

作者：

蒋百灵

吴国建

张淑芬

雷廷权

机构：

[1] 西安理工大学材料学院,西安理工大学材料学院,西安理工大学材料学院,西安理工大学材料学院陕西西安,陕西西安,陕西西安,陕西西安

来源：

金属热处理学报 | 2002年 / 01期

关键词：

镁合金; 微弧氧化; 相结构; 致密层; 疏松层;

D O I：

10.13289/j.issn.1009-6264.2002.01.002

中图分类号：

TG174.44 [金属复层保护];

学科分类号：

摘要：

利用扫描电镜 (SEM)、X射线衍射 (XRD)等分析手段 ,研究了MB8镁合金微弧氧化陶瓷膜层的生长规律 ,分析了微弧氧化条件下氧化镁膜层致密性和相结构与处理时间的关系。结果表明 ,在微弧氧化初期膜层致密 ,几乎观察不到疏松层 ;随着处理时间的延长及膜层的增厚 ,其外侧开始出现疏松层 ,最终可达到膜层总厚度的 90 %左右。膜层相结构主要由MgO、MgSiO3、MgAl2 O4和无定形相组成。随着膜层厚度的增加 ,膜层中MgO、MgAl2 O4的含量不断地增加 ,MgSiO3 的含量基本不变 ,而无定形相的含量却逐渐减少

引用

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