光学元件超精密气囊抛光关键技术研究现状

被引：21

作者：

张伟 ^{[1
]}

李洪玉 ^{[1
]}

于国彧 ^{[2
]}

机构：

[1] 哈尔滨工业大学空间光学工程研究中心黑龙江哈尔滨

[2] Ultra Precision Surfaces,OPTIC Technium,Ffordd William Morgan,StAsaph Business Park

来源：

光学学报 | 2009年 / 29卷 / 01期

关键词：

空间光学; 超精密加工; 气囊抛光; 光学元件; 面形精度;

D O I：

暂无

中图分类号：

TH161.1 []; TN25 [波导光学与集成光学];

学科分类号：

0802 ; 0702 ; 070207 ;

摘要：

空间光学元件对面形精度和表面质量有着极高的要求,气囊抛光采用了新型的抛光工具和特殊的运动形式,是一种高精度、高效率的光学元件加工方法,尤其适用于非球面的加工,具有广阔的应用前景。分析了气囊抛光技术的基本原理及该技术的发展过程,介绍了气囊抛光相关技术的研究情况和实验结果,对几项关键技术的研究现状进行综述,重点介绍材料去除特性、驻留时间控制算法、边缘精度控制以及最新开发的喷液抛光技术的研究情况。

引用

页码：27 / 34

页数：8

共 11 条

[1] 应用离子束进行光学镜面确定性修形的实现 [J].