超声化学法制备高岭土/二甲亚砜插层复合物的研究

被引：14

作者：

韩世瑞

刘雪宁

胡南

杨治中

机构：

[1] 中国科学院广州化学研究所

[2] 中国科学院广州化学研究所广东广州

[3] 广东广州

来源：

广州化学 | 2003年 / 03期

关键词：

超声化学; 高岭土; DMSO; 插层;

D O I：

10.16560/j.cnki.gzhx.2003.03.003

中图分类号：

O644.3 [超声化学];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

采用与传统方法不同的超声化学法,用二甲亚砜(DMSO)对高岭土进行插层,大大缩短了处理时间,而且达到了较理想的插层效果。采用X -衍射研究插层间距,发现硅酸盐片层间距从0.714 nm增加至1.123 nm左右,插层率为90.9%,并对不同超声条件对插层率的影响进行了探讨。同时用FT-IR和TG/DTA等方法对插层机理进行了分析和研究。

引用

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