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化学镀镍硼合金的研究
被引:8
作者
:
高铭适
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
天津大学
高铭适
白树林
论文数:
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0
机构:
天津大学
白树林
机构
:
[1]
天津大学
来源
:
电镀与精饰
|
1987年
/ 01期
关键词
:
镍硼合金;
还原剂;
化学镀镍层;
沉积速度;
镀液;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
<正> 一、前言自1946年 Brenner 和 Riddell 发明化学镀镍以来,几十年中发表了很多关于化学镀镍工艺过程和镀层性能的论文。但是绝大多数论文与专利都是使用以次磷酸盐为还原剂的镀液,因而可得到含磷的化学镀镍层。在化学镀层不断发展的过程中,世界上不少科学家也在努力探索其他类型的还原剂。研究结果表明,使用含硼的还原剂,特别是硼氢化物和胺
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页码:12 / 14+32 +32
页数:4
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