流动注射-氢化物发生-等离子体原子发射光谱法同时测定电解铜中痕量砷、锑、铋的研究

被引：7

作者：

喻昕

陈建国

王松青

廖振环

江祖成

机构：

[1] 武汉大学化学系

[2] 宁波进出口商品检验局

来源：

关键词：

氢化物发生；砷、锑、铋的测定；流动注射；ICP－AES;

D O I：

10.13595/j.cnki.issn1000-0720.1998.0017

中图分类号：

O657.31 [原子发射光谱分析法];

学科分类号：

070302 ; 081704 ;

摘要：

介绍了流动注射（ＦＩ）－氢化物发生（ＨＧ）与等离子体原子发射光谱（ＩＣＰ－ＡＥＳ）联用技术以及应用于电解铜中痕量砷、锑、铋测定的研究，本法的ＲＳＤ对砷、锑、铋分别为２．３、１．８、２．８％（ｎ＝１１），方法的检出限分别为０．３、０．３、１．１５μｇ／ｇ。

引用

页码：59 / 61

页数：3