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软X射线投影光刻原理装置的设计
被引：21
作者：
金春水
王占山
曹健林
不详
机构：
[1] 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室!吉林长春
来源：
关键词：
软X射线投影光刻;
多层膜反射镜;
软X射线投影光刻原理装置;
激光等离子体光源;
D O I：
暂无
中图分类号：
TN305.7 [光刻、掩膜];
学科分类号：
080508 [光电信息材料与器件];
摘要：
首先介绍了投影光刻技术发展的历程、趋势和软 X射线投影光刻技术的特性 ,其次介绍了软 X射线投影光刻原理装置的研制工作。该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、镀有多层膜的 Schwarzchild微缩投影物镜、涂有光刻胶的硅片及相应的真空系统组成。 0 .1倍的 Schwarzchild微缩投影物镜具有小于 0 .2μm的分辨率
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页数：5
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