离子束旋转刻蚀工艺误差对均匀照明的影响

被引：4

作者：

徐俊中

赵逸琼

王炜

李永平

徐向东

周洪军

洪义麟

李涛

傅绍军

机构：

[1] 中国科学技术大学物理系

[2] 中国科学技术大学国家同步辐射实验室

[3] 中国科学技术大学国家同

来源：

光电工程 | 2001年 / 06期

关键词：

旋转刻蚀; 误差分析; 离子束刻蚀; 衍射光学元件;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN256 [集成光学器件];

学科分类号：

摘要：

介绍一种离子束旋转刻蚀工艺,该工艺可用于制作真正意义上连续位相分布的衍射光学元件。对工艺系统中离子束不均匀度和基片与掩模板中心对准误差对器件性能的影响作了模拟计算,并根据对误差的模拟分析提出了工艺改进方案。

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