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X射线荧光光谱分析中基体效应的数学校正方法新探
被引:15
作者
:
谭秉和
论文数:
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机构:
北京科技大学化学系
谭秉和
龚武
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机构:
北京科技大学化学系
龚武
孙伟莹
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机构:
北京科技大学化学系
孙伟莹
机构
:
[1]
北京科技大学化学系
来源
:
光谱学与光谱分析
|
1998年
/ 03期
关键词
:
X射线荧光分析,基体效应,基本参数法,不锈钢;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
O657.34 [X射线荧光分析法];
学科分类号
:
摘要
:
用开发的TBHXRF基本参数法程序计算了复杂样品的基体效应。提出一个修正多元体系基体效应的校正数学模型和计算影响系数α及β,导出的校正模式及影响系数的物理意义清楚、明确。用该法分析了不锈钢样品获得良好的结果。还指出在某些情况中,三次荧光的影响不能忽略,从对比实验中得出结论,对Ni浓度高的钢铁样品在分析Cr时,必须考虑Ni、Fe对CrKα的三次荧光效应影响。
引用
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页码:111 / 116
页数:6
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