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CVD金刚石薄膜的应力研究
被引:13
作者
:
唐壁玉
论文数:
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引用数:
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0
机构:
湖南大学化学化工系
唐壁玉
靳九成
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机构:
湖南大学化学化工系
靳九成
李绍绿
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机构:
湖南大学化学化工系
李绍绿
论文数:
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机构:
周灵平
陈宗璋
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机构:
湖南大学化学化工系
陈宗璋
机构
:
[1]
湖南大学化学化工系
[2]
湖南大学测试中心
来源
:
高压物理学报
|
1997年
/ 01期
关键词
:
化学气相沉积,金刚石薄膜,X射线衍射,应力;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
O434.1 [X射线];
学科分类号
:
070207 ;
0803 ;
摘要
:
利用X射线衍射研究了化学气相沉积的金刚石薄膜的应力情况。研究表明:热应力在研究范围内为压应力,本征应力是张应力。分析了薄膜厚度、生长温度、碳源浓度等实验参数对薄膜应力的影响
引用
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页码:57 / 61
页数:5
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