电弧离子镀中不同偏压模式对TiN薄膜形貌的影响

被引：10

作者：

黄美东

孙超

董闯

黄荣芳

闻立时

机构：

[1] 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室!辽宁大连

[2] 中国科学院金属研究所

[3] 辽宁沈阳

[4] 中国科学院金属研究所!辽宁沈阳

来源：

关键词：

电弧离子镀; TiN; 脉冲偏压; 薄膜形貌;

D O I：

10.13385/j.cnki.vacuum.2001.03.013

中图分类号：

TB43 [薄膜技术];

学科分类号：

0805 ;

摘要：

用扫描电子显微镜观察了电弧离子镀中各种不同偏压模式 :不加偏压、加不同直流偏压和加幅值相同但占空比不同的脉冲偏压情况下获得的 Ti N薄膜的表面形貌。结果表明 ,脉冲偏压可以大大减小膜表面的大颗粒尺寸和数量 ,显著改善表面形貌。

引用

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